原理：
在高真空环境下，电子枪灯丝加热后发射热电子，热电子被加速阳极加速，获得很大的动能，在电磁场作用下，偏转到蒸发源表面，轰击并使其汽化，从而达到蒸发的目的。
技术指标：
工艺本底真空：2.5E-4Pa
设备真空配置：机械泵、冷泵
EB系统配置：EB 10kV，坩埚40CC*6
基片加热温度： RT—350℃
样品尺寸：8inch，向下兼容
装片量：6inch*36pcs或8inch*18pcs
薄膜非均匀性：≤±5%
应用：
在高真空系统中，实现金属Al、Au、Cr、Cu、Ni、Pt、Sn、Ti等材料的单层或多层金属薄膜的高均匀性、快速沉积工艺。适用于6inch或8inch样品，小尺寸及不规则样品工艺需贴片进行。
