1、设备厂商：真萍科技
2、设备型号：Serial No：MD-40
3、设备原理：
HMDS（六甲基二硅氮烷）把它涂到硅片表面后，通过加温可反应生成以硅氧烷为主的化合物，这实际上是一种表面活性剂，将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起到耦合的作用。并且在显影的过程中，增强了光刻胶与基底的粘附力，从而有效地抑制图形移位。
4、设备亮点：
该设备温度为20℃到200℃之间可调，操作界面简单，程序编辑简单清楚，设备内部可放置大量晶圆。
5、主要用途：
提高光刻胶与衬底之间的粘附力，使之在显影过程中光刻胶不会被液态显影液渗透。
6、技 术 指 标 :
1. 工作设定温度：120℃
2. 循环真空度：1000 Pa
3.N2保压压力：1000 Pa
4.充液真空度：100 Pa
7、工 艺 示 例 :
