原理：
光刻机照射出紫外光，通过具有图形的掩膜版，对涂有光刻胶的晶圆曝光，利用感光后的光刻胶在溶液中的溶解速度不同实现图形转移。
技术指标：
光源：紫外宽带
最小分辨率：1.2μm
正面对准精度：0.8μm
对准模式：手动对准、自动对准
应用：
主要用于8inch晶圆批量自动曝光，具有正面和背面对准功能。
示例：
8inch晶圆光刻
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